突围技术屏障，国内CF光刻CD技术的破局之路与产业新局 当前国内CF光刻技术长期受海外技术封锁、专利壁垒限制，光刻关键尺寸（CD）精度等核心参数卡脖子问题突出，产业自主可控需求迫切，国内产学研主体正联动开展技术攻关，从光刻胶、曝光设备等上游核心环节突破，稳步提升光刻CD控... liuying综合2026-09-0294 阅读0 评论
